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柔性调平机构概念设计

余志伟 于靖军 孙明磊 宗光华

余志伟, 于靖军, 孙明磊, 等 . 柔性调平机构概念设计[J]. 北京航空航天大学学报, 2005, 31(07): 714-717.
引用本文: 余志伟, 于靖军, 孙明磊, 等 . 柔性调平机构概念设计[J]. 北京航空航天大学学报, 2005, 31(07): 714-717.
Yu Zhiwei, Yu Jingjun, Sun Minglei, et al. Conceptual design of compliant leveling mechanism[J]. Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics, 2005, 31(07): 714-717. (in Chinese)
Citation: Yu Zhiwei, Yu Jingjun, Sun Minglei, et al. Conceptual design of compliant leveling mechanism[J]. Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics, 2005, 31(07): 714-717. (in Chinese)

柔性调平机构概念设计

基金项目: 国家863基金资助项目(2004AA404260); 国家自然科学基金资助项目(50475002)
详细信息
    作者简介:

    余志伟(1975-),男,四川崇州人,博士生, zhiwei yu005@163.com.

  • 中图分类号: TH 112.5

Conceptual design of compliant leveling mechanism

  • 摘要: 芯片之间的调平是保证对准精度的一个重要手段.针对目前微制造领域中常用调平机构的缺点,提出了一种实用的柔性调平机构.该机构具有精度高、速度快、结构紧凑、控制简单等优点.重点对机构的调平原理及其概念设计进行了详细论述.在概念设计中,对机构的总体结构及其关键元件——柔性柱的结构进行了设计与分析;为确定调平机构主要的设计参数,建立了原始尺寸、变形尺寸和应力三个方面的约束条件.利用能量法对柔性柱的柔度进行了理论分析,通过商用有限元软件ANSYS8.0对其进行了仿真,从而验证了柔度公式的正确性.指出了在设计实现中需要解决的若干关键问题.

     

  • [1] 谢传钵.分步重复投影光刻机精密快速定位工件台研究[J] 电工程, 1996, 23(4):65~72 Xie Chuanbo.Investigations of precision fast positioning stage for wafer stepper[J] Opto-Electronic Engineering, 1996, 23(4):65~72(in Chinese) [2] 王继红,钱 进.用于X射线曝光的微调平机构[J] 子工业专用设备, 1998, 27(3):6~7 Wang Jihong,Qian Jin.Micro adjusting mechanism applied in X radial[J] quipment for Electronic Products Manufacturing, 1998, 27(3):6~7(in Chinese) [3] Choia B J, Sreenivasana S V, Johnsona S, et al. Design of orientation stages for step and flash imprint lithography[J] Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology , 2001,25:192~199
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-10-30
  • 网络出版日期:  2005-07-31

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