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磁场作用下微波等离子体中电子的运动

宋汝安 程先安 祁祥麟

宋汝安, 程先安, 祁祥麟等 . 磁场作用下微波等离子体中电子的运动[J]. 北京航空航天大学学报, 1998, 24(5): 599-602.
引用本文: 宋汝安, 程先安, 祁祥麟等 . 磁场作用下微波等离子体中电子的运动[J]. 北京航空航天大学学报, 1998, 24(5): 599-602.
Song Ruan, Cheng Xianan, Qi Xianglinet al. Motion of Microwave Plasma Electrons in the Action of Magnetic Field[J]. Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics, 1998, 24(5): 599-602. (in Chinese)
Citation: Song Ruan, Cheng Xianan, Qi Xianglinet al. Motion of Microwave Plasma Electrons in the Action of Magnetic Field[J]. Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics, 1998, 24(5): 599-602. (in Chinese)

磁场作用下微波等离子体中电子的运动

基金项目: 航空科学基金(94I 51152)资助项目
详细信息
  • 中图分类号: O 532.11; O 532.12

Motion of Microwave Plasma Electrons in the Action of Magnetic Field

  • 摘要: 对矩形微波谐振腔中的等离子体,在高频电磁场和非均匀稳恒外磁场作用下的电子回旋共振运动进行了讨论.对电子写出了牛顿运动方程,采用数值计算方法,用计算机计算并绘出了电子运动曲线和运动轨迹.对电子的能量也作了计算.从计算结果分析了电子运动的特点和电子的能量吸收.

     

  • 1. Toyama H, Okabayashi M, Ishizuka H. Plasma acceleration using a high frequency field and a static magnetic field.Plasma Phys, 1968,10:319~336 2. 宋汝安,程先安,周忠毅.磁场-微波等离子体与大面积金刚石薄膜.物理学报,1990,39:1635~1639 3. Matsuo S, Adachi Y. Reactiv ion beam etching using a broad beam ECR ion source. Jpn J Appl Phys,1981,21:L4~L6 4. Matsuo S, Kiuchi M. Low temperature chemical vapor deposition method utilizing an electron cyclotron resonance plasma. Jpn J Appl Phys, 1983,22:L210~L212
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出版历程
  • 收稿日期:  1997-06-04
  • 网络出版日期:  1998-05-31

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