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低电压(10V)下镁合金表面电化学氧化膜层

朱立群 王喜眉 张玲玲

朱立群, 王喜眉, 张玲玲等 . 低电压(10V)下镁合金表面电化学氧化膜层[J]. 北京航空航天大学学报, 2008, 34(12): 1402-1406.
引用本文: 朱立群, 王喜眉, 张玲玲等 . 低电压(10V)下镁合金表面电化学氧化膜层[J]. 北京航空航天大学学报, 2008, 34(12): 1402-1406.
Zhu Liqun, Wang Ximei, Zhang Linglinget al. Electrochemical oxidation film of magnesium alloy at low voltage( 10V)[J]. Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics, 2008, 34(12): 1402-1406. (in Chinese)
Citation: Zhu Liqun, Wang Ximei, Zhang Linglinget al. Electrochemical oxidation film of magnesium alloy at low voltage( 10V)[J]. Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics, 2008, 34(12): 1402-1406. (in Chinese)

低电压(10V)下镁合金表面电化学氧化膜层

详细信息
    作者简介:

    朱立群(1955-),男,山东荷泽人,教授,zhulq@buaa.edu.cn.

  • 中图分类号: TG 174.451; TG 146.2; TQ 153.6

Electrochemical oxidation film of magnesium alloy at low voltage( 10V)

  • 摘要: 基于高电压下氧化成膜有可能对镁合金基材机械性能造成损伤.研究了在以硅酸钠为主要成分的电解液中,施加10~110V交流电压对AZ91D镁合金表面进行电化学氧化的成膜过程.探讨了氧化电压、氧化时间等对膜层性能的影响规律,并且对所获得氧化膜层进行了微观分析.结果表明:在10V电压下氧化就能获得与70~110V电压下耐腐蚀性相当的氧化膜层;而且在10V交流电压下获得的氧化膜层形成过程为颗粒状形式—连接成块状—完整的膜层—交错叠式生长等4个阶段.

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2008-01-04
  • 刊出日期:  2008-12-31

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